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沉痛!中國半導體硅材料奠基人梁駿吾逝世

作者:羅靈姣 日期:2022-06-26 08:43:01 點擊數(shù):
6月23日,中國科學院半導體研究所發(fā)布訃告:中國工程院院士、中國科學院半導體研究所研究員、我國著名半導體材料學家梁駿吾先生因病醫(yī)治無效,不幸于2022年6月23日17時在北京逝世,享年89歲。

沉痛!中國半導體硅材料奠基人梁駿吾逝世(圖1)



梁駿吾,1933年9月18日出生,湖北武漢人。1955年畢業(yè)于武漢大學,1956年至1960年在蘇聯(lián)科學院莫斯科巴依可夫冶金研究所攻讀副博士學位,1960年獲技術科學副博士學位。1997年當選為中國工程院院士。曾任中國電子學會半電子材料學分會主任、名譽主任。

梁駿吾是我國從事硅材料研究的元老級專家,在20世紀60年代解決了高純區(qū)熔硅的關鍵技術。1964年制備出室溫激光器用GaAs液相外延材料。1979年研制成功為大規(guī)模集成電路用的無位錯、無旋渦、低微缺陷、低碳、可控氧量的優(yōu)質(zhì)硅區(qū)熔單晶。上世紀80年代首創(chuàng)了摻氮中子嬗變硅單晶,解決了硅片的完整性和均勻性的問題。90年代初研究MOCVD生長超晶格量子阱材料,在晶體完整性、電學性能和超晶格結(jié)構控制方面,將中國超晶格量子阱材料推進到實用水平。

目前90%以上的半導體產(chǎn)品使用硅基材料制造。半導體硅片是半導體制造的核心材料,亦是半導體產(chǎn)業(yè)的基石,約占半導體制造材料的三分之一。半導體硅片又稱硅晶圓片,是制作集成電路的重要材料,通過對硅片進行光刻、離子注入等手段,可以制成集成電路和各種半導體器件。



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